Primo impianto di produzione a 45 nanometri su larga scala

Intel annuncia l'avvio ufficiale della produzione di una nuova generazione di microprocessori per PC, notebook, server e altri dispositivi informatici all'interno del primo impianto di produzione a 45 nanometri su larga scala situato a Chandler, in Arizona. In questo impianto da 3 miliardi di dollari, denominato “Fab 32”, verrà utilizzata l'innovativa tecnologia di processo a 45 nm basata su una novità rivoluzionaria di Intel, che ha "reinventato" specifiche aree dei transistor all'interno dei processori per ridurre la dispersione di energia. I transistor da 45 nm, realizzati con un materiale ad alta costante k basato su afnio per la dielettrica dei gate e con un materiale metallico per il gate, sono talmente piccoli che sarebbe possibile inserirne più di 2 milioni fino al punto alla fine di questa frase. Con diversi milioni di questi minuscoli transistor sarà possibile produrre processori Intel più veloci, con un'efficienza energetica maggiore, senza piombo e privi di alogeni per PC, notebook e server, oltre a processori a bassissimo consumo energetico per i MID (Mobile Internet Device) e l'elettronica di consumo, e PC a basso costo. In base alla road map, il primo processore Intel a 45 nm dovrebbe essere introdotto sul mercato il 12 novembre.

“L'apertura della Fab 32 in Arizona conferma l'impegno di Intel a continuare a investire nella risorsa più strategica: la rete di produzione più evoluta ed ecocompatibile del mondo”, ha commentato Paul Otellini, President e CEO di Intel. “Con le innovazioni della tecnologia a 45 nm e della nuova architettura dei transistor, Intel sarà in grado di offrire processori a elevate prestazioni e con efficienza energetica ai clienti dell'intera gamma di segmenti di mercato, dai server più potenti fino a un'ampia varietà di dispositivi mobili, oltre a tutte le altre tipologie di prodotti”.

La Fab 32 è il sesto impianto Intel per la produzione con wafer da 300 mm e la seconda struttura utilizzata per produrre chip a 45 nm. Intel, che ha iniziato a produrre processori a 45 nm a gennaio nell'impianto di sviluppo situato nell'Oregon, denominato D1D, ora prevede di passare alla produzione su larga scala con l'inaugurazione della Fab 32. Per il prossimo anno è prevista l'apertura di altri due impianti di produzione da 45 nm e 300 mm, a Kiryat Gat, in Israele (Fab 28) e a Rio Rancho, in New Mexico (Fab 11x). Con i wafer da 300 mm è possibile ridurre, oltre i costi di produzione per ogni chip, anche l'utilizzo complessivo di risorse.

La struttura della Fab 32 si estende per circa 93.000 metri quadrati, di cui 17.000 metri quadrati di clean room, una superficie talmente ampia che sarebbe possibile inserirvi più di 17 campi da football americano. L'impianto occuperà più di 1.000 di dipendenti, con posizioni come Process, Automation, Yield Engineer e Senior Manufacturing Technician.

Obiettivo puntato sull'ambiente, dall'impianto al transistor

La Fab 32 sarà uno degli impianti Intel maggiormente ecocompatibili finora disponibili, con l'adozione di diverse misure per il risparmio energetico che ormai caratterizzano la lunga tradizione di Intel nelle politiche di rispetto ambientale.

L'innovativa tecnologia di processo a 45 nm di Intel consente di ridurre del 15% le emissioni di gas serra, e nella Fab 32 è stato implementato un programma all'avanguardia per il riutilizzo idrico che consente di risparmiare oltre il 70% di acqua.

L'azienda ha inoltre annunciato l'intenzione di richiedere la certificazione per la nuova Fab come primo impianto LEED (Leadership in Energy and Environmental Design) ufficiale di Intel, basato sui nuovi criteri sviluppati per strutture di questo tipo. LEED è un sistema di valutazione della qualità energetica e ambientale degli edifici, sviluppato dal Green Building Council USA che fornisce un insieme di standard per la sostenibilità ambientale delle costruzioni e richiede diversi mesi di dati operativi prima che possa essere completata la certificazione. Questa certificazione dimostrerà che la Fab 32 soddisfa gli standard ambientali più elevati e riflette il continuo impegno di Intel verso la leadership nell'ecologia.